Кристаллы иттрий-алюминиевого граната с эрбием - это кристаллы, подходящие для создания почти любой длины волны выходного излучения. Высоколегированные кристаллы Er:YAG содержат примерно 50% атомов иттрия, замененных атомами эрбия, благодаря чему можно получить излучение с длиной волны 2940 нм. Излучение с такими параметрами способно поглощать воду, а потому применяется в стоматологии, косметологии и офтальмологии.
Титан-сапфировые кристаллы широко применяются в лазерах с перестраиваемой длиной волны, а также в фемтосекундных твердотельных лазерах. Такой кристалл впервые был использован в качестве активной среды для генерации сверхкоротких импульсов в 1986 году. Титан-сапфировые кристаллы и по сей день не имеют аналогов по свойствам, отличаются высокой теплопроводностью, смягчающей термические эффекты, и используются в основном в высокомощных лазерах.
Кристаллы иттрий-алюминиевого граната с иттербием обладает множеством уникальных характеристик: высокой квантовой эффективностью, отсутствием поглощения в возбужденном состоянии и потерь при повышении частоты, продолжительным временем излучения верхнего лазерного уровня, большой шириной поглощения. Они отличаются непревзойденными оптическими, термическими и механическими свойствами.
Кристалл иттрий-алюминиевого граната, легированного неодимом (Nd:Y3Al5O12 или Nd:YAG) продолжает считаться лучшим из редкоземельных материалов. Лазеры на основе этого кристалла характеризуются четырехуровневой энергетической схемой, при которой достигается низкий пороговый импульс и непрерывное излучение.
Ванадат иттрия с неодимом - лучшие кристаллы для диодной накачки среди существующих в настоящее время на рынке лазерных кристаллов. Они в основном применяются в лазерной печати, позволяющей получать высококачественные контрастные снимки.
Кристаллы иттербия со фторидом кальция обладают низким квантовым дефектом и незначительной дисперсией. Они надежны, имеют высокую теплопроводность, долгое время жизни флуоресценции и широкий диапазон поглощения. Чаще всего именно эти кристаллы используют в фемтосекундных лазерах в качестве рабочей среды.
Кристаллы Er,Cr:YSGG применяются в лазерах для генерации излучения длиной волны 2790 нм. Активная среда на основе такого кристалла позволяет генерировать непрерывное излучение, как свободное, так и с модуляцией добротности. Кристаллы применяются для импульсной и диодной накачки.
Фосфатное стекло, легированное эрбием и иттербием особенно популярно при генерации лазерного излучения с длиной волны 1535 нм. Излучение безопасно для глаз и хорошо пропускается в атмосфере.
Cr, Tm, Ho: YAG (иттриево-алюминиевый гранат, легированный гольмием, хромом или тулием) - кристаллы для генерации излучения длиной волны 2.1 мкм. Такие кристаллы обычно работают в режиме генерации импульсного излучения, но также могут использоваться для диодной накачки.
Лазеры на основе кристаллов Cr2+:ZnSe/S чаще всего применяются в спектроскопии, зондировании, медицине. Кристаллы позволяют генерировать излучение в области среднего ИК диапазона спектра. К уникальным свойствам относится широкая полоса накачки и высокое поглощение. Преобразование частот происходит с минимальными потерями.
Новейшая разработка для научных исследований. Легирующие ионы: Nd, Ho, Er, Yb, Pr, Cr, Co, Ce. Матрица: YSO (Y2SiO5, Y2SiO7).
Новейшая разработка для научных исследований. Легирующие ионы: Nd, Ho, Er, Yb, Pr, Cr, Co, Ce. Матрица: LSO (Lu2SiO5).
Новейшая разработка для научных исследований. Легирующие ионы: Nd, Ho, Er, Yb, Pr, Cr, Co, Ce. Матрица: LuAG (Lu3Al5O12).
Новейшая разработка для научных исследований. Легирующие ионы: Nd, Ho, Er, Tm, Yb, Pr, Cr, Co, Ce. Матрица: GSGG (Gd3Sc2Ga3O12).
Новейшая разработка для научных исследований. Легирующие ионы: Nd, Ho, Er, Tm, Yb, Pr, Cr, Co, Ce. Матрица: YAP (YAl3O5).
Новейшая разработка для научных исследований. Легирующие ионы: Nd, Ho, Er, Tm, Yb, Pr, Cr, Co, Ce, Sm. Матрица: YAG (Y3Al5O12).
Диффузионное соединение (сварка) кристаллов применяется, когда необходимо соединить пару или более компонентов, легированных различными ионами. Части сопрягаются оптически и далее подвергаются действию высоких температур. Процесс сварки состоит из следующих этапов: обеспечивается плотный оптический контакт, медленное нагревание при температуре, равной 2/3 температуры плавления, части спрессовывают вместе, в таком состоянии кристалл находится некоторое время, чтобы процесс диффузии завершился, в конце кристалл охлаждается до комнатной температуры в течение 24 часов.