Лазеры и лазерные системы
- AeroDIODE
- Alpes Lasers
- Box Optronics Technology
- Bright Solutions
- CNI laser
- CRYSTRONG Photonics
- DoGain
- Dream Lasers
- EKSPLA
- Fatonics
- Fex-Laser
- FocusLight
- Haomin
- HÜBNER Photonics
- Inngu Laser
- LD-PD
- LEUKOS
- LIGHT CONVERSION
- LightMachinery
- Litron Laser
- Menhir Photonics
- Menlo Systems
- MPB Communications
- Newlight Source Technology
- NKT Photonics
- PHOTONX
- Precilasers
- Santec
- Synrad
- Teyu S&A
- Toptica
- Wavelength Electronics
- Wavespectrum
Спектрометры и измерительное оборудование
- Adimec
- Andor
- ARCoptix
- Atometrics
- AUREA Technology
- Avantes
- Becker & Hickl
- Brimrose Technology Corporation
- Ceyear
- CHNSpec
- CINOGY
- CIS Systems
- Clyde HSI
- Dage-MTI
- Electro-Optics Technology
- Femto Messtechnik
- Gentec Electro-Optics
- Hamamatsu Photonics
- HHIT
- HORIBA
- InterFero
- Labor
- Laser Beam
- Lasertex
- MappingLab
- Metricon
- NWSPEC
- Ocean Optics
- Ophir Optronics Solutions
- OPTOSKY
- PalmSens
- Photonfocus
- PROPHESEE
- Rohde & Schwarz
- Schäfter+Kirchhoff
- Shafan
- Shimadzu
- Shine Optics
- SIMINICS
- Stanford Research Systems
- Teledyne
- ToupTek
- Tucsen
- Tyggo
- VoyaWave Optics
- YIXIST
Оборудование для квантовых технологий
Оборудование для ультракоротких импульсов
Устройства преобразования излучения
Терагерцевое оборудование
Оптика, оптомеханика и оптические столы
Волокна и компоненты волоконной оптики
Передовые исследования
Лазерные системы и технологии
Квантовые и нанотехнологии
Современные методы исследования
Системы визуализации
Справочник фотоники
Оптическое покрытие
Ионное напыление
60-точечная оптическая система управления
Радиочастотный источник ионов
Автоматическое управление
Двойная электронно-лучевая пушка E-типа
Система управления вращением кристалла из 6 частей
Техническая спецификация
- Высокий коэффициент пропускания в целевом диапазоне длин волн;
- Низкий уровень отражения;
- От дальнего ультрафиолетового излучения до инфракрасного диапазона;
- Низкое поглощение на уровне чувствительности в одну миллионную часть;
- Высокий порог повреждаемости;
- Адаптируемый под требования.
| Категория покрытия | Диапазон длин волн (нм) | Угол падения (°) | Отражение (%) |
| УФ одночастотное антибликовое покрытие | 266 | 0-15° | R < 0.2% |
| УФ одночастотное антибликовое покрытие | 355 | 0-10° | R < 0.2% |
| Антибликовое покрытие дальнего ультрафиолетового излучения | 247-250 | 0-15° | R < 0.2% |
| Широкополосное антибликовое покрытие | 380-480 | 0-30° | R < 0.5% |
| Двухчастотное антибликовое покрытие | 355-532 | 0-15° | R < 0.5% |
| Двухчастотное антибликовое покрытие | 532-1064 | 0° | R < 0.2% |
| Широкополосное антибликовое покрытие | 770-1070 | 0-30° | R < 0.5% |
| Широкополосное антибликовое покрытие | 1530-1570 | 0-20° | R < 0.2% |
| Широкополосное антибликовое покрытие | 1700-2500 | 0-30° | R < 0.5% |
- Высокое отражение в заданном диапазоне длин волн и под углом падения;
- Можно выбрать металлическую и диэлектрическую среду;
- Высокий порог повреждаемости;
- Адаптируемый под требования.
| Категория покрытия | Диапазон длин волн (нм) | Угол падения (°) | Отражение (%) |
| Одночастотное покрытие с высоким коэффициентом отражения | 355 | 45° | > 99.5% |
| Одночастотное покрытие с высоким коэффициентом отражения | 266 | 45° | > 99.5% |
| Двухчастотное покрытие с высоким коэффициентом отражения | 343/532 | 40° | > 60%/99% |
| Двухчастотное покрытие с высоким коэффициентом отражения | 633/1064 | 45° | > 80%/99.5% |
| Широкополосное покрытие с высоким коэффициентом отражения | 440-540 | 0° | > 99.5% |
| Широкополосное покрытие с высоким коэффициентом отражения | 630-690 | 40°-50° | > 99% |
| Широкополосное покрытие с высоким коэффициентом отражения | 1020-1085 | 43-47° | > 99.8% |
| Широкополосное покрытие с высоким коэффициентом отражения | 1450-1550 | 44-46° | > 99.5% |
- Высокая спектральная точность;
- Можно выбрать металлическую и диэлектрическую среду;
- Адаптируемый под требования.
| Категория покрытия | Диапазон длин волн (нм) | Угол падения (°) | Техническая спецификация |
| Металлодиэлектрический светоделитель | 850±5 | 0° | T:R=1:1 |
| Разделитель одного луча | 1064 | 0° | T/R=40/60; T/R=50/50; T/R=30/70 |
| Широкополосный светоделитель | 500-700 | 0° | T/R=50/50 |
| Делитель луча с плоской поляризацией | 1064 | 56° | Tp > 95%; Rs > 99%; Tp/Ts>100:1 |
| Призменный поляризационный светоделитель | 532 | 45° | Tp > 98%; Rs > 99.5%; Tp/Ts>1000:1 |
| Призменный деполяризационный светоделитель | 532 | 45° | T/R=48:48; |Rs-Rp| < 5% |
| Призменный деполяризационный светоделитель | 700-1000 | 45° | T/R=45:45; |Rs-Rp| < 5% |
- Высокий коэффициент прозрачности в полосе пропускания;
- Высокая степень оптической плотности;
- Высокая стабильность;
- Спектральное уплотнение каналов;
- Адаптируемый под требования.
| Категория покрытия | Техническая спецификация |
| Отсекающий фильтр | Коэффициент прозрачности в полосе пропускания T > 90%; Диапазон отсечки может основываться на требованиях заказчика; Глубина реза OD3 |
| Полосовой фильтр | Центральная длина волны: 488nm/905 нм/1064 нм/1545 нм/1575 нм; Полная ширина линии на половине высоты: 10 нм-200 нм; Пиковое пропускание > 75%; Глубина реза OD3; Диапазон отсечки может основываться на требованиях заказчика |
Наука в деталях
Читайте экспертные статьи, обзоры оборудования и актуальные новости научной индустрии.
Топологические фазовые структуры оптических пучков конического преломления: расширение возможностей вихревых пучков с орбитальным угловым моментом для применений в нанобиосенсорике
Топологические фазовые структуры оптических пучков конического преломления: расширение возможностей вихревых пучков с орбитальным угловым моментом для применений в нанобиосенсорике
Недавно коллективом авторов университета Астона (Великобритания) в престижном высокорейтинговом журнале Nanophotonics бы...
Полупроводниковый лазер с внешним резонатором с плавной перестройкой длины волны, без перескока мод
Полупроводниковый лазер с внешним резонатором с плавной перестройкой длины волны, без перескока мод
Разработка и экспериментальное исследование перестраиваемого полупроводникового лазера, работающего в непрерывном режиме...
Метод флуоресцентной микроскопии сверхвысокого разрешения
Метод флуоресцентной микроскопии сверхвысокого разрешения
Мир клеток скрыт от человеческого глаза — даже мощные оптические микроскопы не способны показать детали меньше 200 нм. Ч...
Манипулирование иерархической структурой жидких кристаллов в синей фазе для достижения модуляции светового поля с множеством степеней свободы
Манипулирование иерархической структурой жидких кристаллов в синей фазе для достижения модуляции светового поля с множеством степеней свободы
Недавно исследовательская группа профессора Ху Вэя из Нанкинского университета добилась значительного прогресса в област...
Голографическая проекция изображений с использованием метаповерхностей, освещаемых органическими светодиодами
Голографическая проекция изображений с использованием метаповерхностей, освещаемых органическими светодиодами
В представленной работе авторами была продемонстрирована компактная система голографической проекции, основанная на инте...