Nano 3D Fabrication

Оборудование для наноразмерной 3D‑печати

Установки на основе многофотонной полимеризации с закрытой оптической схемой и системой стабилизации энергии позволяют создавать трёхмерные структуры разрешением до 70 нм при высокой скорости и долговременной стабильности, совместимы с широким спектром материалов и востребованы в биомедицине, микрооптике и материаловедении

Центры сверхбыстрой лазерной микро‑ и нанообработки

Системы с двухволновым фемтосекундным лазером обеспечивают абляцию, модификацию и прецизионную обработку металлов, стекла, керамики, полимеров и оптических волокон с нанометровой точностью, высокой производительностью и возможностью как удаления, так и добавления материала для оптоэлектроники, полупроводников и аэрокосмической промышленности

Системы безмасочной прямозаписывающей литографии

УФ‑литографические комплексы с автоматическим выравниванием, автоподстройкой фокуса и серошкальной экспозицией обеспечивают быстрое и точное формирование 2D/2.5D микро‑наноструктур на подложках диаметром до 12 дюймов с высокой точностью совмещения и сшивки для микрофлюидики, микроэлектроники и биотехнологий

Фоторезистивные материалы для микро‑нано 3D‑печати

Разработанные составы отличаются высоким пространственным разрешением (вплоть до нанометров), низкой собственной флуоресценцией, биосовместимостью (сертифицированы по ISO 10993‑5/USP87), термостойкостью и оптической прозрачностью, что делает их пригодными для создания волноводов, микролинз, гидрогелевых каркасов для клеточных культур и других функциональных микро‑наноструктур

Основанная в 2017 году, компания является разработчиком и производителем высокотехнологичного оборудования для микро‑ и нанообработки. Собственная исследовательская команда обладает более чем десятилетним опытом в оптике, механике, электронике, программном обеспечении и материаловедении. В портфель входят три ключевые линейки: установки для наноразмерной 3D‑печати, центры сверхбыстрой лазерной обработки и системы безмасочной прямозаписывающей литографии, а также ряд специализированных фоторезистивных материалов. Оборудование позволяет создавать трёхмерные структуры с разрешением до 70 нанометров, сочетая высокую точность, скоростные режимы и долговременную стабильность. Разработки востребованы в биомедицине, оптоэлектронике, новых материалах, микроэлектронике и аэрокосмической отрасли. Клиентам предоставляется полный цикл сопровождения – от индивидуальных предпродажных решений до пожизненной технической поддержки и модернизации систем.


Подбор оборудования Nano 3D Fabrication осуществляется специалистами INSCIENCE по техническому заданию.
Оборудование для наноразмерной 3D‑печати
  • Установки на основе многофотонной полимеризации с разрешением до 70 нм 
  • Закрытая оптическая схема
  • Система стабилизации энергии и сверхскоростной режим для создания трёхмерных микро‑ и наноструктур на полимерах и гидрогелях
Центры сверхбыстрой лазерной микро‑ и нанообработки
  • Системы с двухволновым фемтосекундным лазером
  • Ширина линии ≤ 100 нм 
  • Шероховатость ≤ 10 нм 
  • Возможность абляции/модификации металлов, стекла, керамики, полимеров и оптических волокон для прецизионного удаления и добавления материала
Системы безмасочной прямозаписывающей литографии
  • УФ‑комплексы с автоматическим выравниванием
  • Автофокус
  • Серошкальная экспозиция 
  • Высокая точность совмещения/сшивки для быстрого формирования 2D/2.5D структур на подложках диаметром до 12 дюймов без ограничения поля записи.
Фоторезистивные материалы для микро‑нано 3D‑печати
  • Высокоразрешающие составы (нанометровая детализация) с низкой флуоресценцией, 
  • Биосовместимость (ISO 10993‑5/USP87)
  • Термостойкость
  • Оптическая прозрачность и низкая усадка для волноводов, линз, гидрогелевых каркасов и метаматериалов