AvaSpec-HERO обладает высоким разрешением и чувствительностю к колебаниям спектра благодаря компактной оптической скамье (100 мм) с числовой апертурой 0.13 и охлаждаемым детектором (1024×58 пикселей). В электронике использована плата AS7010 с высокопроизводительным аналогово-цифровым преобразователем с отличными шумовыми параметрами и возможностью одновременной передачи данных на высокой скорости через USB3.0 и Ethernet.
Диапазон длин волн | 200 - 1160 нм | |
Разрешение | 0.2 - 7 нм, зависит от конфигурации | |
Рассеяние света | более 0.5 % | |
Чувствительность | 445 000 | |
Время интеграции | 5.2 мс - 180 сек | |
Сигнал/шум | 1200:1 | |
Детектор | ПЗС матрица с охлаждением | |
АЦП | 16 бит, 250 кГц | |
Интерфейс | USB 3.0 (5 Гбит/с), Gigabit Ethernet (1 Гбит/с) | |
Скорость дискретизации | 5.2 мс/скан | |
Скорость передачи | 5.2 мс/скан | |
Ввод/вывод |
Разъем HD-26, 2 аналоговых входа, |
|
Источник питания | 12 В постоянного тока, 1.5 А | |
Габаритные размеры, вес | 185×161×185 мм, 3500 г |
Используемый диапазон (нм) | Спектральный диапазон (нм) | Лин/мм | Блеск (нм) | Партномер |
190-1100 | 910 | 426 | 230 | HSC0246-0.23**n |
200-1160 | 770-760 | 300 | 300 | HSC0300-0.30 |
250-1160 | 770-760 | 300 | 420 | HSC0300-0.42 |
250-1160 | 577-553 | 400 | 550 | HSC0400-0.55 |
200-850 | 373-345 | t600 | 400 | HSC0600-0.40 |
200-1160 | 373-345 | 600 | 650 | HSC0600-0.65 |
500-1160 | 268-220 | 830 | 900 | HSC0830-0.90 |
200-1160 | 182-130 | 1200 | 400 | HSC1200-0.40 |
500-1050 | 182-130 | 1200 | 750 | HSC1200-0.75 |
200-580 | 84-61 | 2400 | 270 | HSC2400-0.27 |
Размер щели (мкм) | 25 | 50 | 100 | 200 | 500 |
Решетка 246 лин/мм | 2.10 | 2.70 | 4.15 | 7.90 | 17.0 |
Решетка 300 лин/мм | 1.80 | 2.30 | 3.40 | 6.50 | 14.00 |
Решетка 400 лин/мм | 1.45 | 1.60 | 2.60 | 5.10 | 12.00 |
Решетка 600 лин/мм | 0.85 | 1.10 | 1.70 | 3.40 | 7.50 |
Решетка 800 лин/мм | 0.60 | 0.70 | 1.25 | 2.30 | 5.00 |
Решетка 1200 лин/мм | 0.40 | 0.48 | 0.80 | 1.45 | 3.50 |
Решетка 2400 лин/мм | 0.30 | 0.36 | 0.50 | 0.80 | 1.75 |
В статье исследуется, как изменения параметров в методах обработки поверхности подложек приводят к изменениям в процессах адгезии, подчеркивая особенности взаимодействия между методами обработки серной кислотой и УФ-излучением, используя изображения, полученные с помощью интерферометры белого света.
г. Санкт-Петербург, улица Савушкина 83, корп. 3