Главная / Библиотека / Лазерно-водоструйное скрайбирование кремния

Лазерно-водоструйное скрайбирование кремния

Теги inngu laser лазерная микрообработка скрайбирование кремния наносекундные лазеры
Лазерно-водоструйное скрайбирование кремния

Введение 

Монокристаллический кремний - полупроводник, широко применяющийся в электронике, биологии, энергетике и фотохимии. Кремний - сложно обрабатываемый материал из-за хрупкости и твердости. Задача создания микроструктур с большим соотношением глубины и ширины в кремниевых подложках актуальна для производства микроэлектромеханических систем (МЭМС). 

Технология лазерно-водоструйного скрайбирования кремния, подробно исследованная и оптимизированная учеными Харбинского технологического института, продемонстрировала возможность создания канавок низкой конусности с глубиной ~5800 мкм и сечением в верхней части и нижней части ~300 мкм и ~160 мкм соответственно.

Метод заключается в обработке подложки наносекундным лазером, осуществляющим термическую абляцию материала, с одновременной подачей струи воды под высоким давлением, обеспечивающей тепловую конвекцию и непрерывную очистку.

Рисунок72

Рисунок 1 – Схема лазерно-водоструйного скрайбирования

Эксперимент 

В качестве лазерного источника для обработки использовался твердотельный Nd:YAG лазер (Pulse-532-50, Inngu Laser). Диаметр струи воды, подаваемой под давлением 25 МПа, составил 50 мкм. 

Таблица 1 – Основные выходные параметры лазера

Параметр Значение
Длина волны 532 нм
Длительность импульса 100 нс
Частота следования импульсов 1 –200 кГц
Средняя мощность 50 Вт (макс.)
Энергия импульса 1,2 мДж (макс.)
М² 2

Выбор длины волны обусловлен меньшим поглощением воды в видимом диапазоне в сравнении с ИК, а излучение с длительностью импульса 100 нс в свою очередь не вызывает лазерно-индуцированного распада воды.

Эксперименты по лазерно-водоструйному скрайбированию кремниевой подложки показали, что независимое увеличение мощности и энергии импульса и уменьшение скорости сканирования приводят к большей глубине абляции. При этом благодаря использованию струи воды, ограничивающей мощность лазера в пространстве, данные параметры не влияли на ширину канавки, зависящей от диаметра водной струи.

Однако при попытке углубления канавки последовательным воздействием нескольких импульсов на одну точку образца возникла проблема: после первого лазерного импульса глубина канавки практически не увеличивалась. Этот эффект возникает из-за потери энергии лазерного излучения вследствие его отражения, преломления и поглощения в массе из воды, газа и шлаков, оставшихся в углублении после первого импульса.

Для решения проблемы предложены и опробованы экспериментально несколько схем многорядного лазерного сканирования. Наилучший результат показали схемы с наличием широкого канала для выброса осажденной воды и шлаков, как при схеме «213» при сканировании в одном слое (рис. 2 (б)) и схеме «от поверхности к глубине» при сканировании в глубину подложки (рис. 3 (б)).

Рисунок73

Рисунок 2 – Схемы лазерного сканирования в одном слое: (а) последовательность 123, (б) последовательность 213, (в) последовательность 132

Рисунок74

Рисунок 3 – Схемы лазерного сканирования в глубину подложки: (а) от глубины к поверхности, (б) от поверхности к глубине

В результате при использовании стратегии «от поверхности к глубине» в монокристаллическом кремнии получены микроканавки со следующими параметрами:

  • глубина ~5800 мкм,
  • сечение в верхней части ~300 мкм,
  • сечение в нижней части ~160 мкм,
  • конусность 0,013.

Таблица 2 – Параметры сканирования

Мощность Частота следования импульсов Шаг сканирования на одном слое Шаг сканирования по глубине Число слоев сканирования по глубине Число сканирований Скорость сканирования
50 Вт 10 кГц 20 мкм 100 мкм 60 1 10 мм/с

Рисунок75

Рисунок 4  Глубокие микроканавки с малой конусностью, полученные на подложке монокристаллического кремния методом сканирования от поверхности к глубине

Как видно на рис. 4, пыль, трещины и прочие дефекты отсутствуют, что свидетельствует о высоком качестве обработки и применимости лазерно-водоструйной обработки для скрайбирования кремния.

В серии наносекундных Nd:YAG лазеров высокой мощности Pulse и Super Pulse производства Inngu Laser представлены модели с длиной волны 1064, 532 и 355 нм. Лазеры подходят для резки, скрайбирования, маркировки металлов, полупроводников, полимерных пленок.

Ознакомиться с каталогом Inngu laser можно здесь.

 

Компания INSCIENCE является эксклюзивным дистрибьютором продукции Inngu Laser на территории РФ. Для подробного ознакомления с ассортиментом производителя приглашаем Вас посетить сайт inngulaser.ru.

Online заявка

Теги inngu laser лазерная микрообработка скрайбирование кремния наносекундные лазеры
Новые статьи
Лазерно-водоструйное скрайбирование кремния

Задача создания микроструктур с большим соотношением глубины и ширины в кремниевых подложках актуальна для производства МЭМС. Технология лазерно-водоструйного скрайбирования продемонстрировала возможность создания глубоких канавок с низкой конусностью в кремнии.

3D-печатный с использованием фемтосекундного лазера микрообъектив для ультратонкого волоконного эндоскопа

Наиболее важным оптическим компонентом волоконно-оптического эндоскопа является объектив. Поэтому разработка ультракомпактного объектива является залогом создания ультратонкого волоконно-оптического эндоскопа с высоким качеством визуализации.

Лазерное восстановление поверхности отшлифованных пластин монокристаллического кремния

В данном исследовании показана возможность лазерного восстановления поверхности кремния, поврежденного грубой и тонкой алмазной шлифовкой, исследовано влияние на качество обработки пластин параметров лазерного излучения:  длительности импульса и плотности мощности.

 
Исследование эффективности переработки использованного пластика методом ИК-Фурье спектроскопии с помощью спектрометра Labor FTIR-990

Во всех аспектах повседневной жизни наблюдается ускоренный рост в потреблении пластика, так как он является дешевым, долговечным, устойчивым к коррозии, легким материалом, который не подвержен разложению и может быть легко преобразован в различные продукты.

sCMOS–камера TRC411 с усилением для визуализации излучения Черенкова дозы лучевой терапии.

Команда младшего научного сотрудника Цзя Мэнъюй из Школы точных приборов и оптоэлектронной инженерии Тяньцзиньского университета осуществила визуализацию излучения Черенкова дозы лучевой терапии с помощью научной sCMOS–камеры, разработанной компанией CISS

Фиксирование эволюции морфологии лазерно-индуцированной плазменной люминесценции с использованием sCMOS-камеры TRC411

Процесс эволюции лазерно-индуцированной плазмы (ЛИП) заключается в следующем: мощный импульсный лазер облучает образец, и на поверхности образца происходит процесс испарение → ионизация → расширение → излучение → рекомбинация за очень короткое время.

У Вас особенный запрос?
У Вас особенный запрос?
Весьма часто наши заказчики лучше нас знают, какое оборудование им нужно. В этом случае мы берём на себя общение с производителем, доставку и таможенную очистку, а также все вопросы гарантийного периода. Пожалуйста, заполните эту форму, и мы свяжемся с Вами, чтобы помочь решить любую Вашу задачу. Или позвоните нам по телефону +7(495)199-0-199
Форма заявки
Ваше имя: *
Ваше имя
Ваш e-mail: *
Ваш телефон: *
Ваш телефон
Наши
контакты
г. Москва, ул. Бутлерова, д. 17Б

г. Санкт-Петербург, улица Савушкина 83, корп. 3